招标概要
VD设备数量:1台设备新旧:全新设备用途:该设备采用等离子体增强化学气相沉积系统,主要用于进行掺锗(Ge)二氧化硅薄膜、掺氟(F)的二氧化硅薄膜和BPSG薄膜淀积工艺。资金到位或资金来源落实情况:已到位项目已具备招标条件的说明:已具备2、招标内容招标项目编号:0664-2540SUMECA83/17招标项目名称:PECVD项目实施地点:中国...
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